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正在蔡司半導體無塵室內處理驗證工具的員工
光罩處理與驗證

確保光罩無瑕疵

藉由光罩驗證

在光罩用於步進器或曝光機前，必須檢驗所有光罩的瑕疵，瞭解其對光罩轉印效能的影響，並消除這些瑕疵。 AIMS®是唯一能在曝光機等效條件下檢驗光罩的系統，這些條件涵蓋所有微影技術，包括雙重曝光、光源光罩最佳化（SMO）以及反向微影。

  • 類似曝光機的成像條件
  • 全面性能升級
  • 根據需求客製化
  • Application Image of a qualified photomask
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  • 合格光罩的應用圖像
  • 合格光罩的應用圖像
  • 合格光罩的應用圖像
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瑕疵檢視、轉印適性分析和修復驗證

蔡司提供光罩驗證解決方案，以確保248奈米、193奈米和EUV微影用光罩的轉印效能無瑕疵。系統可根據轉印特性精確地檢測光罩是否合格。蔡司的首款AIMS機台於1993年問世。時至今日，這套系統已成為光罩製程中不可或缺的一環，可確保為晶圓廠提供無瑕疵的光罩。 

以下為各種創新的AIMS®系統

  • AIMS® EUV

    感光性EUV測量平台提供全面模擬功能

    蔡司以新一代AIMS® EUV開啟感光性光罩驗證的全新紀元。

    • 提供NXE:3xy0曝光機系統的掃描成像條件全面模擬功能，且可擴充至下一代EXE:5000 High-NA EUV曝光機系統。
    • AIMS® EUV擁有可精確定位瑕疵的高精度平台，並採用EUV等離子來源，可滿足製造無瑕疵EUV光罩的業界製程需求。

  • AIMS® 1x-193i

    確保先進光罩的完美轉印效能

    蔡司AIMS 1x-193i用於檢視瑕疵、轉印適性分析和修復驗證，並以高精度和準確性檢測光罩是否符合現今的技術節點。

    • 因應增加的功能複雜性、更嚴格的光罩規格和更精確可靠的瑕疵處理等挑戰。
    • 利用FlexIllu®（一種電腦控制的照明和SMO技術的關鍵促進因素）提供出色的CD重複性和全面的照明彈性。
    • 提供未來的性能升級，以強化系統在CD重複性和處理能力方面的能力，以滿足不斷發展的技術需求。
    • 支援其他應用程式，例如：用於航空影像的全自動可靠分析的AIMS® AutoAnalysis以及用於印刷感知光罩CD量測的WLCD 2G。

  • AIMS® 32-193i SE

    強化193奈米成熟光罩瑕疵檢測的彈性

    蔡司AIMS 32-193i SE專用於193奈米的成熟產品，這些產品需要進行瑕疵驗證的彈性，但又面臨成本效益的挑戰。

    • 設在經過驗證且穩健的量測平台上。
    • 透過雙滑塊解決方案，提供多種傳統照明方案，強化照明彈性。
    • 提供FreeForm Illumination（FFI）功能，可實現更複雜的照明形狀，以支援微影光學要求。
    • 增加產量以提高生產力，低數值孔徑選項可放置多種工具。

  • AIMS® fab neo

    配備最先進的248奈米瑕疵檢測元件

    蔡司AIMS fab neo以高生產力執行248奈米光罩的瑕疵和修復驗證。

    • 當流程簡化和成本效益為主要訴求時，配備最先進技術的系統就是最佳選擇。
    • 提供全新的設計。光束路徑經過改良，可確保高度可靠性和強化維修能力。
    • 照明裝置配備可更換式滑塊，可預先定義多達21個使用者可定義的sigma光圈。這可確保在操作過程中輕鬆切換照明圖案。
一名員工在蔡司半導體的無塵室內手持光罩

曝光機等效的照明條件

AIMS®可在與曝光機相同的光學條件下運作，並可在光罩廠中檢測光罩的轉印效能。該技術可應對日益增加的複雜性、更嚴格的光罩規格和更精確可靠的瑕疵處理等挑戰。隨著工具世代的發展，需要更複雜的照明圖案，於是FlexIllu®相應而生，這是一種電腦控制照明，適用於蔡司DUV先進系統，亦即微影光學技術的關鍵推動力。  此外，該系統會考量所有光學效果，包括向量效果以及對於檢測光罩轉印特性極為重要的3D光罩效果。
AIMS® 1x-193i配備LITO™等級的光學元件，可為最新的曝光機技術進行像差修正，搭配強化的瞳孔均勻性，有助於曝光機與工具的完美搭配。

光罩載入蔡司驗證工具中

全面性能升級

最新一代的蔡司AIMS 1x-193i透過全面性能升級，來強化系統在CD重複性和處理能力方面的能力，以滿足不斷發展的技術需求。蔡司為AIMS® EUV提供平台擴充功能，例如：Digital Flex Illu、Phase Metrology和HiNA Upgrade，滿足客戶對技術不斷發展的需求。除此之外，AIMS® AutoAnalysis等最新自動化功能還能大幅提升生產力和可靠性。

檢證工具蔡司AIMS 1x中的光罩

根據需求客製化

蔡司可根據客戶需求客製化各種世代的工具。該系統已針對不同的照明波長和應用進行優化，能滿足特定市場的需求。蔡司EUV和193奈米高階AIMS系統可滿足高階市場的要求，高階市場的驅動力源自於高度功能複雜性、複雜的照明圖案以及嚴格的瑕疵和光罩規格。成熟的市場需要穩健的製程、高生產力和具成本效益的解決方案。蔡司的193奈米和248奈米AIMS系統可滿足這些需求。

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