跳到主要內容
蔡司半導體製造科技
返回
蔡司半導體製造科技
建議的搜尋
熱門搜尋
正在蔡司半導體無塵室內處理驗證工具的員工
光罩處理與驗證

確保光罩零缺陷

藉由光罩驗證

在投入步進式與掃描式曝光機使用前，所有光罩必須進行缺陷檢驗，瞭解缺陷對光罩轉印效能的影響並消除這些缺陷。AIMS®是唯一能在掃描式曝光機等效條件下檢驗光罩的系統，這些條件涵蓋所有微影技術，包括雙重曝光、光源光罩最佳化（SMO）以及逆向微影。

  • 類似掃描式曝光機的成像條件
  • 全面效能升級
  • 根據需求客製化
  • Application Image of a qualified photomask
  • Application Image of a qualified photomask
  • Application Image of a qualified photomask
  • Application Image of a qualified photomask
  • 合格光罩的應用圖像
  • 合格光罩的應用圖像
  • 合格光罩的應用圖像
  • 合格光罩的應用圖像

缺陷檢視、轉印適性分析和修復驗證

蔡司提供光罩驗證解決方案，以確保 248 奈米、193 奈米和 EUV 微影製程的光罩轉印效能零缺陷。該系統可根據轉印特性精確地檢測光罩是否合格。蔡司的首款 AIMS 機台於 1993 年問世，如今該系統已成為光罩製程中不可或缺的一環，可確保為晶圓廠提供零缺陷的光罩。 

以下為各種創新的 AIMS® 系統

  • AIMS® EUV

    感光性 EUV 測量平台提供全面模擬功能

    蔡司以新一代 AIMS® EUV 開啟感光性光罩驗證的全新紀元。

    • 提供 NXE:3xy0 掃描式曝光機系統的掃描成像條件全面模擬功能，且可擴充至下一代 EXE:5000 High-NA EUV 掃描式曝光機系統。
    • AIMS® EUV 擁有可精確定位缺陷的高精度平台，並採用 EUV 等離子來源，可滿足製造零缺陷 EUV 光罩的業界製程需求。

  • AIMS® 1x-193i

    確保高階光罩的完美轉印功能

    蔡司 AIMS 1x-193i 適用於缺陷檢視、轉印適性分析和修復驗證，並以高精度和準確性檢測光罩是否符合現今的技術節點。

    • 因應增加的功能複雜性、更嚴格的光罩規格和更精確可靠的缺陷處理等挑戰。
    • 利用 FlexIllu®（由電腦控制的照明和光源光罩最佳化技術的關鍵促進因素）提供出色的 CD 重複性和全面的照明靈活性。
    • 提供未來效能升級方案，進一步強化系統在 CD 重複性和產能的效率，以滿足持續發展的技術需求。
    • 支援其他應用程式，例如：用於航空影像全自動可靠性分析的 AIMS® AutoAnalysis，以及用於印刷感知光罩 CD 量測的 WLCD 2G。

  • AIMS® 32-193i SE

    提升 193 奈米成熟光罩缺陷檢測的靈活性

    蔡司 AIMS 32-193i SE 專為 193 奈米的成熟產品設計，這些產品需要相當程度的靈活性進行缺陷驗證，但同時面臨成本效益的挑戰。

    • 建基於經過驗證且穩健的量測平台。
    • 透過雙滑塊解決方案，提供多種傳統照明模式，提升照明靈活性。
    • 具備 FreeForm Illumination（FFI）功能，可實現更複雜的照明形狀，以滿足光源光罩最佳化要求。
    • 增加產量提高生產力，並配備低數值孔徑選項，可取代多種工具。

  • AIMS® fab neo

    配備最先進的 248 奈米缺陷檢測元件

    蔡司 AIMS fab neo 以高生產力進行 248 奈米光罩的缺陷和修復驗證。

    • 當以簡化和成本效益為主要訴求時，配備最先進技術的系統就成為最佳選擇。
    • 提供全新設計，光束路徑經過優化，可確保高可靠性並提升維修便利性。​
    • 照明裝置配備可換式滑塊，可預先定義多達 21 個使用者自訂的 sigma 光圈，藉此確保在操作過程中輕鬆切換照明模式。
一名員工在蔡司半導體的無塵室內手持光罩

掃描式曝光機等效的照明條件

AIMS® 可在與掃描式曝光機相同的光學條件下運作，並可在光罩廠中檢測光罩的轉印效能。此技術解決了日益複雜的製程、更嚴格的光罩規格要求，以及更精準可靠的缺陷處理等挑戰。隨著工具世代演進，日益複雜的光照方案需求催生出 FlexIllu®，這是一種電腦控制光照系統，專為蔡司 DUV 高階系統設計，是實現光源光罩最佳化技術的關鍵促進因素。此外，該系統會考量所有光學效果，包括向量效果以及對於檢測光罩轉印特性至關重要的 3D 光罩效果。

AIMS® 1x-193i 配備 LITO™ 等級的光學元件，可為最新的掃描式曝光機技術進行像差修正，搭配強化的瞳孔均勻性，有助於掃描式曝光機與工具的完美搭配。

光罩載入蔡司驗證工具中

全面效能升級

最新一代蔡司 AIMS 1x-193i 透過全面效能升級來強化系統在 CD 重複性和產能的效率，以滿足持續發展的技術需求。蔡司為 AIMS® EUV 提供平台擴充功能，例如：Digital Flex Illu、Phase Metrology 和 HiNA Upgrade，支援客戶對技術持續發展的需求。除此之外，AIMS® AutoAnalysis 等最新自動化功能可大幅提升生產力和可靠性。

檢證工具蔡司AIMS 1x中的光罩

根據需求客製化

蔡司可根據客戶需求，客製化各種世代的工具。這些系統針對不同的照明波長和應用進行優化，並可滿足特定市場需求。蔡司 EUV 和 193 奈米高階 AIMS 系統可滿足高階市場的需求，高階市場的驅動力源於高度功能複雜性、複雜的照明模式以及嚴格的缺陷和光罩規格。成熟市場則需要可提供穩健製程、高生產力與成本效益的解決方案。蔡司的 193 奈米和 248 奈米 AIMS 系統可滿足這些需求。

型錄

活動

與我們在全球會議上相遇

聯絡資訊

歡迎隨時與我們聯絡

正在載入表格...

如需了解有關蔡司資料處理的更多資訊，請參閱我們的  資料隱私權通知。

選填資訊